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      1、系統(tǒng)配備預(yù)處理裝置相對(duì)于原水水質(zhì)及流量不合適，或在系統(tǒng)內(nèi)未配備必要的工藝裝置和工藝環(huán)節(jié)。

      2、預(yù)處理裝置運(yùn)行不正常，即系統(tǒng)原有的預(yù)處理設(shè)備對(duì)原水SDI成分、濁度、膠狀物等的去除能力較低，預(yù)處理效果不理想。

      3、系統(tǒng)選擇了不恰當(dāng)?shù)脑O(shè)備或設(shè)備材質(zhì)選擇不正確（泵、配管及其它）。

      4、系統(tǒng)化學(xué)藥品注入裝置發(fā)生故障（酸、絮凝/助凝劑、阻垢/分散劑，還原劑及其它）。

      5、設(shè)備間斷運(yùn)行或系統(tǒng)停止使用后未采取適當(dāng)?shù)谋Ｗo(hù)措施。

      6、運(yùn)行管理人員不合理的設(shè)備操作與運(yùn)用（回收率、產(chǎn)水量、濃縮水量、壓差、清洗及其它）。

      7、膜系統(tǒng)內(nèi)長(zhǎng)時(shí)間的難溶沉淀物堆積。

      8、原水組份變化較大或水源特性發(fā)生了根本的改變。

      9、反滲透膜系統(tǒng)已發(fā)生了相當(dāng)程度的微生物污染。

      1、碳酸鹽垢

      結(jié)垢后表現(xiàn)：標(biāo)準(zhǔn)滲透水流量下降，或是脫鹽率下降。

      原因：膜表面濃差極化增加。

      2、鐵/錳

      污染后表現(xiàn)：標(biāo)準(zhǔn)壓差升高（主要發(fā)生在裝置前端的膜元件），也可能引起透水量下降。通常錳和鐵會(huì)同時(shí)存在。

      3、硫酸鹽垢

      若發(fā)生沉積，首先影響鹽濃度最高的系統(tǒng)最后面的膜元件，表現(xiàn)為二段壓差明顯升高。需要用專用清洗劑。

      4、硅

      顆粒硅：污堵膜元件水流通道，導(dǎo)致系統(tǒng)壓差升高。采用0.4%二氯胺對(duì)于溶解嚴(yán)重污染的硅垢是有效的。

      膠硅：與顆粒硅相似。

      溶解硅：形成硅酸鹽析出，應(yīng)采用二氯胺清洗。

      5、懸浮物/有機(jī)物

      污堵表現(xiàn)：透水量下降，一段壓差明顯升高。若給水SDI大于4或濁度大于1，有機(jī)物污染的可能性較大。

      6、微生物

      污堵表現(xiàn)：標(biāo)準(zhǔn)壓差升高或標(biāo)準(zhǔn)透水量下降?？刹捎梅茄趸詺⒕鷦┘訅A進(jìn)行清洗。

      7、鐵細(xì)菌

      污堵表現(xiàn)：標(biāo)準(zhǔn)壓差升高?？刹捎肊DTA鈉鹽加堿進(jìn)行清洗。

      發(fā)生下列情況時(shí)應(yīng)該清洗膜了

      1、標(biāo)準(zhǔn)化后的設(shè)備產(chǎn)水量減少了10~15%；

      2、標(biāo)準(zhǔn)化后的膜系統(tǒng)運(yùn)行壓力增加了15% ；

      3、標(biāo)準(zhǔn)化后的膜系統(tǒng)鹽透過(guò)率較初始正常值增加了10~15%；

      4、運(yùn)行壓差較初始作業(yè)時(shí)增加了15%  

      1、負(fù)壓清洗：負(fù)壓清洗可以說(shuō)是通過(guò)設(shè)備的真空抽吸，在反滲透膜側(cè)面形成的壓力，這樣可以有效的去除膜表面以及內(nèi)部的污染物；

      2、反沖：反沖是利用強(qiáng)力的氣體或者液體對(duì)膜的表面進(jìn)行清洗，從而達(dá)到清理膜內(nèi)部的污染物，讓膜恢復(fù)干凈，反沖目前是清洗反滲透膜較為常用的一種方式之一；

      3、化學(xué)清洗：化學(xué)清洗的方法是使用化學(xué)清洗劑對(duì)反滲透膜進(jìn)行清洗，由于是化學(xué)物有針對(duì)性的清洗同樣能夠有效的對(duì)膜進(jìn)行清洗，這種方式也是人們常用的清洗方式之一。

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